MASKESİZ LİTOGRAFİ

Maskesiz litografide ışığa duyarlı emülsiyonun (ya da fotorezistin) maruz kaldığı radyasyon bir fotomaskeden çıkmaz ya da iletilmez. Radyasyon, bunun yerine, görüntüyü fotoreziste piksel piksel direkt olarak yazan dar bir ışın demetine odaklanır. Maskesiz litografinin temel avantajlarından biri yeni bir fotomask üretme maliyeti olmadan litografi desenlerini işlemler arasında değiştirebilmektir. Bu avantaj çift desenlemede çok kullanışlıdır.

Elektron demeti litografi geniş spektrumda elektron demeti enerjisine (~10eV ile ~100keV arasında) erişim sağlayan geniş çeşitlikte elektron demeti sistemlerinin varlığından dolayı maskesiz litografinin en çok kullanılan türüdür. Ar-Ge işlemlerinde esneklik ve kullanım kolaylığı sağlayan lazer litografi (çoklu-foton litografi) optik maskesiz litografinin en popüler türlerinden biridir. Mikrometre altındaki çözünürlüklerde hızlı desenleme ve 200 nm ya da daha büyük ebatlarda çalışırken maliyet etkinliği sunar. Interferans litografi (holografik litografi) optik maskesiz litografinin başka bir türüdür, fakat sadece periyodik desenleri oluşturabilir. 100 nm'ye kadar gelişmiş görüntü çözünürlüğü için görünebilir ışıktan daha kısa dalgaboyuna sahip morötesi ışık (UV) kullanılır. Optik maskesiz litografi yarı-iletken ve LCD endüstrilerinde fotomaske üretmek için sıkça kullanılır. Odaklı iyon demeti litografi bozuklukları ortadan kaldırmak ya da gömülü hatları ortaya çıkarmak için sıkça kullanılır.

Rotalab araştırma ve ürün geliştirme için yüksek performans maskesiz fotolitografik desenleme sistemleri sunar.

    • Kloé Dilase 250

    • Kloé Dilase 650

    • Kloé Dilase 750