MASKESİZ LİTOGRAFİ SİSTEMLERİ

Maskesiz fotolitografi ("maskesiz optik litografi" olarak da bilinir) işleminde ışığa duyarlı emülsiyonun (ya da fotorezistin) maruz kaldığı radyasyon bir fotomaskeden çıkmaz ya da iletilmez. Radyasyon, bunun yerine, görüntüyü fotoreziste piksel piksel direkt olarak yazan dar bir ışın demetine odaklanır. Maskesiz fotolitografinin temel avantajlarından biri yeni bir fotomask üretme maliyeti olmadan litografi desenlerini (paternlerini/örüntülerini) işlemler arasında değiştirebilmektir. Bu avantaj çift desenlemede çok kullanışlıdır.

Elektron demeti litografi geniş spektrumda elektron demeti enerjisine (~10eV ile ~100keV arasında) erişim sağlayan geniş çeşitlikte elektron demeti sistemlerinin varlığından dolayı maskesiz fotolitografinin en çok kullanılan türüdür. Ar-Ge işlemlerinde esneklik ve kullanım kolaylığı sağlayan lazer litografi (çoklu-foton litografi), maskesiz fotolitografinin en popüler türlerinden biridir. Mikrometre altındaki çözünürlüklerde hızlı desenleme ve 200 nm ya da daha büyük ebatlarda çalışırken maliyet etkinliği sunar. Interferans litografi (holografik litografi) maskesiz fotolitografinin başka bir türüdür, fakat sadece periyodik desenleri oluşturabilir. 100 nm'ye kadar gelişmiş görüntü çözünürlüğü için görünebilir ışıktan daha kısa dalgaboyuna sahip morötesi ışık (UV) kullanılır. Maskesiz fotolitografi yarı-iletken ve LCD endüstrilerinde fotomaske üretmek için sıkça kullanılır. Odaklı iyon demeti litografi bozuklukları ortadan kaldırmak ya da gömülü hatları ortaya çıkarmak için sıkça kullanılır.

RotaLab araştırma ve üretim için birçok yüksek performanslı maskesiz fotolitografik desenleme sistemi sağlamaktadır.